Preview

Практика противокоррозионной защиты

Расширенный поиск

Электролит меднения на основе комплексов оксиэтилендифосфоновой кислоты

https://doi.org/10.31615/j.corros.prot.2024.112.2-5

Аннотация

В настоящее время для электрохимического осаждения медных покрытий существуют различные электролиты, из которых наиболее применимыми в промышленности для непосредственного покрытия стали являются цианидные электролиты. Очевидно, использование цианидных электролитов является нежелательным ввиду их высокой токсичности, а в ряде стран, в том числе и в Российской Федерации, были установлены нормативы, запрещающие или строго регулирующие применение цианидов в различных технологических процессах.

В рамках данной исследовательской работы были получены результаты, касающиеся разработки альтернативного щелочного электролита меднения, основанного на оксиэтилендифосфоновой кислоте, с целью замены токсичных цианидных растворов. Проведенные исследования показали, что предлагаемый электролит на основе оксиэтилендифосфоновой кислоты способен обеспечить получение медных покрытий, обладающих не только высоким качеством, но и прочностью сцепления с основой из стали.

Эти результаты открывают новые перспективы в области разработки безопасных и эффективных альтернатив цианидным электролитам в процессах электроосаждения медных покрытий, способствуя снижению экологической нагрузки и повышению безопасности технологических процессов в промышленности.

Об авторах

А. Г. Холодкова
Российский химико-технологический университет имени Д.И. Менделеева
Россия

Холодкова Анна Григорьевна, аспирант,

125047, г. Москва, Миусская площадь, д. 9.



А. А. Абрашов
Российский химико-технологический университет имени Д.И. Менделеева
Россия

Абрашов Алексей Александрович, к.т.н., доцент,

125047, г. Москва, Миусская площадь, д. 9.



Н. С. Григорян
Российский химико-технологический университет имени Д.И. Менделеева
Россия

Григорян Неля Сетраковна, к.т.н., доцент,

125047, г. Москва, Миусская площадь, д. 9.



Т. А. Ваграмян
Российский химико-технологический университет имени Д.И. Менделеева
Россия

Ваграмян Тигран Ашотович, д.т.н., профессор, заведующий кафедрой,

125047, г. Москва, Миусская площадь, д. 9.



Список литературы

1. Агладзе Р.И., Ваграмян Т.А., Гофман Н.Т., Кудрявцев Н.Т. Прикладная электрохимия. – 3-е. изд. // М.: Химия, 1984.

2. Li M.G., Wei G.Y., Li M., Wang J.F., Chen L. and Zhao X.X., Effect of HEDP copper electroplating from non-cyanide alkaline baths // Surface Engineering. – 2014. − V. 30, № 10. https://doi.org/10.1179/1743294414Y.0000000256

3. Патент RU 2652328 С1. Электролит для электролитического осаждения меди. Писарев А.С., Серов А.Н., Желудкова Е.А., Абрашов А.А., Григорян Н.С., Калинкина А.А., Архипов Е.А., Ваграмян Т. А., 2018.

4. Patent CN 104152951 A. Cyanide-free alkali solution mill berry copper electroplating liquid and process. Xie Jinping, Guo Yan, Liang Yunrui, Zeng Zhenou, Wu Yaocheng, Huang Lingfei, 2019.

5. Minggang Li, Guoying Wei, Shuangshuang Hu, Shuhan Xu, Yejiong Yang and Qinfang Miao, Electrodeposition of cuzn alloys from the non-cyanide alkaline baths // Surface Review and Letters. – 2015. − V. 22, № 1. https://doi.org/10.1142/S0218625X1550003

6. Serov A.N., Grigoryan N.S., Makhina V.S., Vagramyan T.A., Abrashov A.A., Kasatkin V.E. and Arkhipushkin I.A. A study of sorption phenomena on steel surface in solutions of aminotris(methylenephosphonic acid) // Int. J. Corros. Scale Inhib. – 2021. − V. 10, № 3. − Р. 932-942. https://doi.org/10.17675/2305-6894-2021-10-3-7

7. Немцев А.Д., Серов А.Н., Желудкова Е.А., Григорян Н.С., Абрашов А.А., Нырков Н.П., Писарев А.С., Исследование процесса щелочного бесцианидного меднения // Успехи в химии и химической технологии. – 2018. – Т. 32, № 13. – С. 30-32.


Рецензия

Для цитирования:


Холодкова А.Г., Абрашов А.А., Григорян Н.С., Ваграмян Т.А. Электролит меднения на основе комплексов оксиэтилендифосфоновой кислоты. Практика противокоррозионной защиты. 2024;29(2):50-58. https://doi.org/10.31615/j.corros.prot.2024.112.2-5

For citation:


Kholodkova A.G., Abrashov A.A., Grigoryan N.S., Vahramyan T.A. Copper Plating Electrolyte Based on Oxyethylene Diphosphonic Acid Complexes. Theory and Practice of Corrosion Protection. 2024;29(2):50-58. (In Russ.) https://doi.org/10.31615/j.corros.prot.2024.112.2-5

Просмотров: 256


Creative Commons License
Контент доступен под лицензией Creative Commons Attribution 4.0 License.


ISSN 1998-5738 (Print)
ISSN 2658-6797 (Online)