Preview

Практика противокоррозионной защиты

Расширенный поиск
Доступ открыт Открытый доступ  Доступ закрыт Только для подписчиков

Влияние продолжительности эксплуатации сернокислого электролита меднения на структуру и термомеханическую устойчивость медных покрытий сквозных отверстий малого диаметра

https://doi.org/10.31615/j.corros.prot.2026.120.2-1

Аннотация

В работе изучено влияние продолжительности эксплуатации сернокислого электролита меднения на структуру и устойчивость гальванических медных покрытий сквозных отверстий к термоудару. Электроосаждение в высокочастотном реверсном режиме с прямоугольными импульсами тока в присутствии комплексной добавки позволяет обеспечить равномерное распределение меди в сквозных отверстиях. В начале эксплуатации электролита для медных покрытий наблюдается плоская текстура кристаллизации с преобладанием атомных плоскостей [220], охарактеризованная методом рентгеновской дифрактометрии. По мере эксплуатации электролита проявляется и становится преимущественной кристаллографическая ориентация [111] электроосажденной меди, в результате увеличивается шероховатость поверхности покрытий. Поскольку содержание меди в электролите в процессе электролиза, по данным рентгеновской флуоресцентной спектроскопии, практически не изменялось, наблюдаемые изменения текстуры могут быть связаны с расходованием блескообразующего компонента ингибирующей добавки. Это предположение подтверждено методом циклической вольтамперометрии. По мере снижения концентрации блескообразующего компонента в процессе эксплуатации снижается устойчивость медных покрытий сквозных отверстий к термоудару. 

Об авторах

А. С. Васильев
Российский химико-технологический университет имени Д.И. Менделеева
Россия

Васильев Алексей Сергеевич, аспирант, 

125047, г. Москва, Миусская площадь, д. 9.



А. А. Калинкина
Российский химико-технологический университет имени Д.И. Менделеева
Россия

Калинкина Анна Анатольевна, к.х.н., доцент, 

125047, г. Москва, Миусская площадь, д. 9.



А. П. Красникова
Российский химико-технологический университет имени Д.И. Менделеева
Россия

Красникова Алёна Петровна, студент, 

125047, г. Москва, Миусская площадь, д. 9.



Т. А. Ваграмян
Российский химико-технологический университет имени Д.И. Менделеева
Россия

Ваграмян Тигран Ашотович, д.т.н., профессор, заведующий кафедрой, 

125047, г. Москва, Миусская площадь, д. 9.



Список литературы

1. Медведев А. М. Исследования термостойкости соединений металл-композит в многослойных печатных платах авионики // Конструкции из композиционных материалов. – 2013. – № 4. – С. 45-48.

2. Kosarev A. A. et al. Effect of the macroand microthrowing power of the electrolyte on the uniformity of distribution of electroplated copper in through-holes for PCB // Journal of Solid State Electrochemistry. − 2021. − Vol. 25, No 5. − P. 1491-1501. https://doi.org/10.1007/s10008-021-04922-0

3. Kalinkina A. A. et al. The impact of current reversal in the presence of inhibitory additives on the thermomechanical stability of galvanic copper coatings // International Journal of Corrosion and Scale Inhibition. − 2022. − Vol. 11, No 3. − P. 1214-1227. https://doi.org/10.17675/2305-6894-2022-11-3-18

4. Aleshina V. K. et al. Additives to the electrolyte for copper plating of through-holes in multilayer printed-circuit boards // International Journal of Corrosion and Scale Inhibition. − 2021. − Vol. 10, No 4. − P. 1661-1676. https://doi.org/10.17675/2305-6894-2021-10-4-18

5. Терешкин В., Григорьева Л., Мусихин Ю. Гальваническое меднение прецизионных печатных плат с отношением толщины печатной платы к диаметру отверстия 15:1 // Технологии в электронной промышленности. – 2020. – № 8. – С. 8-15.

6. Ge W. et al. Ultra-uniform copper deposition in high aspect ratio plated through holes via pulse-reverse plating // Coatings. − 2022. − Vol. 12, No 7. − P. 995. https://doi.org/10.3390/coatings12070995

7. Chen T. C. et al. Effects of brighteners in a copper plating bath on throwing power and thermal reliability of plated through holes // Electrochimica Acta. − 2016. − Vol. 212. − P. 572-582. https://doi.org/10.1016/j.electacta.2016.07.007

8. Zheng L. et al. Investigation of poly (1-vinyl imidazole co 1, 4-butanediol diglycidyl ether) as a leveler for copper electroplating of through-hole // Electrochimica Acta. − 2018. − Vol. 283. − P. 560-567. https://doi.org/10.1016/j.electacta.2018.06.132

9. Xiang J. et al. Electrochemical factors of levelers on plating uniformity of through-holes: simulation and experiments // Journal of the electrochemical society. − 2018. − Vol. 165, No 9. − P. E359. https://doi.org/10.1149/2.0331809jes

10. Huang B. C. et al. Effect of pulsereverse plating on copper: Thermal mechanical properties and microstructure relationship // Microelectronics reliability. − 2019. − Vol. 96. − P. 71-77. https://doi.org/10.1016/j.microrel.2019.04.004

11. Chandrasekar M. S., Pushpavanam M. Pulse and pulse reverse plating−Conceptual, advantages and applications // Electrochimica Acta. − 2008. − Vol. 53, No 8. − P. 3313-3322. https://doi.org/10.1016/j.electacta.2007.11.054

12. Rudajevová A., Dušek K. Influence of manufacturing mechanical and thermal histories on dimensional stabilities of FR4 laminate and FR4/Cu-plated holes // Materials. − 2018. − No 11. − P. 2114. https://doi.org/10.3390/ma11112114

13. Гамбург Ю. Д. Электрохимическая кристаллизация металлов и сплавов // М.: Янус-К. – 1997. – Т. 1197. – С. 384.

14. Täubert C. E. et al. Adsorption of the additives MPA, MPSA, and SPS onto Cu (111) from sulfuric acid solutions // Journal of The Electrochemical Society. − 2007. − Vol. 154, No 6. − P. D293. https://doi.org/10.1149/1.2719611

15. Горелик С. С., Скаков Ю. А., Расторгуев Л. Н. Рентгенографический и электронно-оптический анализ. – М.: Металлургия, 2002. – 358 c.

16. Матулис Ю. Блестящие электролитические покрытия. – Вильнюс: Издательство «МИНТИС», 1969. – 614 с.


Рецензия

Для цитирования:


Васильев А.С., Калинкина А.А., Красникова А.П., Ваграмян Т.А. Влияние продолжительности эксплуатации сернокислого электролита меднения на структуру и термомеханическую устойчивость медных покрытий сквозных отверстий малого диаметра. Практика противокоррозионной защиты. 2026;31(2):6-17. https://doi.org/10.31615/j.corros.prot.2026.120.2-1

For citation:


Vasilev A.S., Kalinkina A.A., Krasnikova A.P., Vagramyan T.A. Effect of Sulfuric Acid Copper Plating Electrolyte Operation Duration on the Structure and Thermomechanical Stability of Through Holes Small Diameter Copper Coatings. Theory and Practice of Corrosion Protection. 2026;31(2):6-17. (In Russ.) https://doi.org/10.31615/j.corros.prot.2026.120.2-1

Просмотров: 36

JATS XML

ISSN 1998-5738 (Print)
ISSN 2658-6797 (Online)